TFT彩屏LCD液晶屏是如何制作的？以下LCD厂家作具体讲解：

TFT-LCD液晶屏主要采用三种半导体材料：非晶硅(aS)、多晶硅( Poly-S)以及硒化镉(Cdse)每种材料不但有自己独特的制作流程，而且也有其不同的优缺点。硒化镉的历史最久，它不在矩阵电路中可作为每个像素充电所需的场效应管，而且可以用来制作周边的驱动电路。是到现在为止，一直没能用这种技术做出一个大面积、高分辨率的彩色显示器来。由于非薄膜场效应管有很低的漏电流，而又有足够的工作电流，它的制作流程有很多地方与集成(MOS)元件的制作流程类似，因此它是目前使用最广泛而且发展最成熟的材料。然而多晶硅薄膜场效应管技术可以将周边的驱动电路与矩阵电路同时做到玻璃基片上，因硅材料很可能成为明日之星。因为目前大多数 TFT-LCD均使用非晶硅，此处局限于非晶硅薄膜场效应管的制作流程中所使用的设备，诸如步进对准曝光机、等离子晶硅场效应管的制作流程。沉积机和溅射机等，除了体积大外，其他与半导体工业所使用的设备非常类似。最好 的结构为反转堆叠式。